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3 プラズマCVDによるSiO2膜 (屈折率n = 2)とSi膜(屈折率n = 3.4)の製造 図1に示すシランと酸素を原料とするプラズマ CVD(plasma-enhanced chemical vapor deposi-tion)は以下に示すような特徴を有する。盧 5μm/hour程度の比較. 2015/05/11 · 【発明の名称】アレイアンテナ式のCVDプラズマ装置 【出願人】株式会社IHI 特許第5757469号P5757469 IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2015.5.11 β版. 2015/05/11 · 【発明の名称】アレイアンテナ式のCVDプラズマ装置 【出願人】株式会社IHI 特許第5811758号P5811758 IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2015.5.11 β版. CVD法にはプラズマCVD法、光CVD法など色々な方式が あるが、超硬工具用に用いられる製法は1000 近い温度で 成膜される熱CVD法である。CVD法の特徴は、①均一な被 覆と密着性が優れていること、②高純度で結晶性が高く多種. PIG放電プラズマCVD 高ガス圧HCD 弊社独自のコーティング技術 トライボロジー評価技術 ニュースリリース 展示会とセミナー 各種技術資料 DLCとは 日本アイ・ティ・エフはシェアN0.1のDLCコーティングサプライヤーです ITFは、設立母体で.

本発明は、より大型な基板に膜厚均一性に優れた高品質薄膜を形成できるプラズマCVD装置及び方法を提供することを目的とする。 - プラズマCVD装置及び方法 - 特開2012−7239 - 特許情報. 2005/07/29 · 化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition)はCVDと呼ばれ、多くの分野で活用されています。この方法の成膜の原理は、真空容器内で成膜材料を蒸発するのではなく、外部から成膜材料のガスを導入して、高温の容器内で. V o 1.49, Na6,1998 CVDと ガス 549 従来の減圧といえば,0.1~1Torr前 後であった が,枚 葉機においては,特 定のプロセスで1Torr 以上の高圧が用いられる0減 圧にすることによ り,反 応ガス分子の平均自由行程が長くなり,ガ ス濃度の均一性. プラズマCVD、高周波 光輝及び流気式焼戻炉 付帯設備、消耗部品 検査器具 有休設備をお譲り下さい。 「御社で眠っている設備をお譲り下さい、又今後、有休になる予定の設備がございましたら、 事前に登録しておきませんか?どんな.

41 3 放電・プラズマ技術 3.1 放電・プラズマの工業的応用 表3-1 に放電・プラズマの工業的応用例をまとめて示す。この中で薄膜作製とエッチ ング・灰化はデバイスプロセスの主要技術である。それらの中から具体的に4 つの応 用例を取上げて簡単に放電・プラズマを利用する効果や意味を説明. CVD研究会 は,主として non-electronic use の CVD 化学蒸着法,化学気相成長法 に関する研究発表と討論を,化学と材料の立場からおこなう学会です。 年1回12月の定例研究会と夏季セミナー8月を開催しています。また,不定期の.

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